設(shè)備圖片

【儀器簡(jiǎn)介】：本設(shè)備將磁控濺射技術(shù)、離子轟擊技術(shù)和蒸發(fā)鍍技術(shù)集成到同一真空室中，實(shí)現(xiàn)了將磁控濺射技術(shù)涂層致密、耐腐蝕性佳、結(jié)合強(qiáng)度高的優(yōu)勢(shì)，和蒸發(fā)鍍技術(shù)沉積速率高、生產(chǎn)效率高的優(yōu)勢(shì)有機(jī)結(jié)合。主要用于在小型緊固件、釹鐵硼永磁體上制備腐蝕防護(hù)涂層。

【儀器參數(shù)】：本設(shè)備采取臥式滾鍍?cè)O(shè)計(jì)，有效鍍膜區(qū)域?yàn)棣?00mm（直徑）×650mm（寬），可耐溫300℃。